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狂购最先进EUV光刻机:台积电开始为1nm制程做准备

发表日期:2021-01-02 03:30文章编辑:浏览次数: 标签:    

之前有音讯称,凯发k8首页台积电正在筹措更多的资金,为的是向ASML购买更多更先进制程的EUV光刻机,而这些都是为了新制程做准备。

在不久前举行的线上活动中,欧洲微电子研讨中心IMEC首席执行官兼总裁Luc Van den hove在线上讲演中表明,在与ASML公司的协作下,愈加先进的光刻机现已取得了发展。

Luc Van den hove表明,IMEC的方针是将下一代高分辨率EUV光刻技能高NA EUV光刻技能商业化。因为此前得光刻机竞争对手早现已连续退出商场,现在ASML把握着全球首要的先进光刻机产能,近年来,IMEC一直在与ASML研讨新的EUV光刻机,现在方针是将工艺规划缩小到1nm及以下。

现在ASML现已完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光体系的根本规划,至于设备的商业化。要比及至少2022年,而比及台积电和三星拿到设备,之前要在2023年。

与此同时,台积电在资料上的研讨,也让1nm成为可能。台积电和交大联手,开宣布全球最薄、厚度只要0.7纳米的超薄二维半导体资料绝缘体,可望借此进一步开宣布2纳米乃至1纳米的电晶体通道。

据悉,台积电正为2nm之后的先进制程继续觅地,包括桥头科、路竹科,均在台积电评价中长期出资设厂的考量之列。

狂购最先进EUV光刻机:台积电开端为1nm制程做准备

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